鋁硅合金靶材是一種用于濺射鍍膜的材料,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、電子等領(lǐng)域。鋁硅合金靶材的主要成分是鋁和硅,具有良好的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性、耐熱性和耐核輻射性。
鋁硅靶材特征
鋁硅靶材形狀:平面靶 異型定制
鋁硅靶材純度:3N,5N
鋁硅靶材尺寸:按圖紙加工或者定制
我們還可以提供鋁硅合金塊、鋁硅合金錠、鋁硅合金粉等
一種鋁硅合金靶材的制備方法
將鋁硅鑄錠依次在鋁硅鑄錠的長度方向、鋁硅鑄錠的寬度方向和鋁硅鑄錠的厚度方向進(jìn)行鍛壓,鍛壓包括依次進(jìn)行的墩粗和拔長,墩粗的變形量為鋁硅鑄錠墩粗前的對應(yīng)方向上長度的40-60%,拔長的變形量為鋁硅鑄錠拔長前的對應(yīng)方向上長度的100-120%,鍛壓次數(shù)為9-12次,每次鍛壓后進(jìn)行2-5min水冷,鍛壓結(jié)束后得到鍛后靶坯;
第一熱處理,熱處理的升溫速率為8-12℃/min、溫度為300-350℃、時間為10-30min,之后進(jìn)行水冷。
軋制,軋制的參數(shù)為5-10mm/道次,軋制的總變形量為鍛后靶坯的70-90%。
第二熱處理,第二熱處理的升溫速率為8-12℃/min、溫度為350-400℃,時間為10-30min,之后進(jìn)行水冷。后進(jìn)行機加工得到鋁硅靶材。
該方法制備的鋁硅靶材,優(yōu)化了內(nèi)部晶粒組織,制備的靶材晶粒細(xì)小均勻,將其平均晶粒尺寸控制在95μm以下,尤其可以控制在58μm以下,且晶粒尺寸變化范圍在25μm之內(nèi);將靶材用于濺射鍍膜時可提高濺射速率和成膜均勻性及致密性。
鋁硅合金靶材應(yīng)用
半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)靶材:鋁硅合金靶材在半導(dǎo)體器件中用作電極、布線薄膜等。
存儲器電極薄膜:鋁硅合金靶材可用于制造存儲器電極薄膜。
粘附薄膜:鋁硅合金靶材在粘附薄膜中也有應(yīng)用。
電容器絕緣膜薄膜:鋁硅合金靶材可用于制造電容器絕緣膜薄膜。
鋁硅合金應(yīng)用
航空和交通領(lǐng)域:鋁硅合金因其輕質(zhì)和高強度的特性,被廣泛用于航空航天器的結(jié)構(gòu)件制造。在交通運輸領(lǐng)域,尤其是在汽車行業(yè),這種合金用于制造發(fā)動機部件、散熱器以及車身結(jié)構(gòu)等,以提高燃油效率并降低排放。
建筑行業(yè):在建筑行業(yè),鋁硅合金用于制造門窗框架、幕墻材料等,這些應(yīng)用利用了合金的耐腐蝕性和良好的機械性能。
電子產(chǎn)品:鋁硅合金也用于電子產(chǎn)品中的散熱器,因為它具有良好的熱導(dǎo)性,可以幫助散發(fā)電子設(shè)備產(chǎn)生的熱量。
鋼鐵冶煉:在鋼鐵冶煉過程中,硅鋁合金用作脫氧劑,有助于提高鋼的質(zhì)量。它的使用可以降低煉鋼過程中的燒損,并且與純鋁相比,硅鋁合金的利用率更高。
制造復(fù)雜鑄件:鋁硅合金適用于生產(chǎn)形狀復(fù)雜的中低強度鑄件,如蓋板、電機殼、托架等。此外,它還可以作為釬焊焊料,用于連接金屬部件。